純度の高い石英ガラスを必要とする場合は、四塩化珪素 (SiCl
4) の気体から化学気相蒸着 (CVD) によって製造する。例えば光ファイバーを製造する場合には、B(
ホウ素)などを添加して
屈折率が低くなるように調整した石英ガラスのチューブを用意し、その内側に前述の方法で SiO
2 を析出させて作製する。
高温を必要としない製造プロセスとしては、
ゾル-ゲル法がある。ゾル-ゲル法は、金属アルコキシドの溶液から
ゾル状態、
ゲル状態を経て固体のガラスやセラミックスを得る方法である。ゾル-ゲル法による石英ガラスの製造では、テトラエトキシシラン (Si (OC
2H
5) 4) を
エタノール水溶液中で加水分解して石英ガラスの多孔質湿潤ゲルとし、これを乾燥・焼結して透明な固体の石英ガラスを得る。焼結温度は1200℃以下で、これは他の方法と較べてかなり低い温度である。