現実の結晶では、格子欠陥や不純物を完全に排除することは不可能である。例えば、格子欠陥の一つである
点欠陥は、ある程度の数が存在する方が熱力学的に安定となるため、完全にその数をゼロにする事は事実上不可能である。これに加え、実際の結晶には必ず端(
結晶表面)が存在する。この様な理由から、実在の結晶では理想的状況(完全結晶)は存在しない。しかし、格子欠陥の一つである線欠陥(
転位)の数はその数を減らすことは可能であり、実際に半導体製造に用いられるシリコンウェハーは
CZ法で作られ、転位のほぼ無い結晶が工業的にも得られている。
